四氧化三钴/氧化镍(Co3O4/NiO)核壳纳米线阵列其支撑核为介孔四氧化三钴纳米线，外壳为氧化镍纳米片。

该核壳纳米阵列经水热法和化学浴法结合制备而成，可以在多种导电和非导电基地（如碳布、泡沫镍、钛片、镍片、不锈钢片、泡沫石墨烯、玻璃等）上生长。

内核的四氧化三钴纳米线平均直径80-100nm，纳米线由相互交联的粒径为4-5nm的纳米颗粒构成，且纳米颗粒间的空隙约为3-5nm。

外壳氧化镍纳米片（直径约10-20纳米）交互缠绕生长在四氧化三钴纳米线核上构成多孔异质结构的核壳纳米阵列。

核壳纳米线的直径300-400nm, 阵列整体长度约为5微米。

样品宏观尺寸不超过宽度3.5厘米´长度4.5厘米。

该样品的宏观色泽呈黑色。

产品信息(CoO/NiO核壳纳米线阵列)：

氧化亚钴/氧化镍(CoO/NiO)核壳纳米线阵列和上述四氧化三钴/氧化镍核壳纳米线阵列的制备方法和形貌尺寸均类似，唯一不用在于前期通过不同热处理工艺生成氧化亚钴纳米线核心，然后再以此为基础生长氧化镍纳米片交联外壳。

代表性样品的扫描电镜和透射电镜照片如下：

FTO玻璃和泡沫镍基底上：