小型液体汽化系统 (温度和压力可控, 适用于CVD和DLCVD)- LVD-F1

· 由数字液体泵控制液体流量，最大流量为10ml/min

· 一次不锈钢罐加热最高温度500℃

· 二次加热带加热最高温度为200℃

· 用于材料研究中CVD方法生长纳米线和薄膜的合适设备

· 电源：208-240VAC，单相50/60HZ

· 功率：2.2KW

· 前面板上的一个调速旋钮用于调节液体的流量大小，LED显示屏上显示进液速度。注意：显示屏上的数值是数字泵的转速不是流量值，请对照换算表换算成流量

· 精确度：±0.5% F.S

· 流量：0-10ml/min可调

· 最小流量：0.1ml/min

· 设备背面其中一个φ6.35的卡套接头为进液口，将吸液管放置在盛有溶液的容器中，蠕动泵可自动抽取液体。

· 气体流速通过浮子流量计控制，流量计量程：50-500ml/min

· 安装了一个压力表，可以观察气液混合罐中的气体压强，压力表量程：-0.1-0.15MPa

· 一个不锈钢针阀控制进气的通断，设备背面其中一个φ6.35的卡套接头为进气口，通过四氟管与气瓶相连

· 系统中含有两个加热部分，流体和气体会在一个316不锈钢罐中加热，最高温度达到550度，此罐已经安装在壳体中，此温度由温控仪表1控制，测温热偶为K型

· 从混气罐到出气口之间的蒸汽输出管道为不锈钢材质的钢管，加热管最高温度能达到200度，此温度由温控仪表2控制，测温传感器为PT100

· 温控仪表中带有过热和断偶保护

· 控温精度：±10℃

340mm（L）*350mm（W）*600mm（H）

约18KG

一年质保期，终身维护（不包含密封圈等易损耗件）